电子_光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火 2023-09-08_中航证券

阅读 98 下载 15 格式 pdf 大小 4.23 MB 共61页2023-09-25 09:52:06发布于重庆市

立即下载加入VIP

海报

/61

立即下载加入VIP

文本预览下载提示常见问题

中航科技电子团队2023年9月8日中航证券研究所发布证券研究报告请务必阅读正文后的免责条款部分行业评级：增持光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火股市有风险入市需谨慎分析师：刘牧野证券执业证书号：S0640522040001研究助理：刘一楠证券执业证书号：S0640122080006核心观点◼光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：𝐶𝐷=𝑘1𝜆/𝑁𝐴的指导下，人类在缩短波长𝜆，增大数值孔径NA，降低工艺因子𝑘1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm波长与达物理极限的𝑘1，正在向0.55NAEUV迈步。为了实现进一步制程微缩，业界多采用多重曝光工艺，但对光刻机的套刻精度、图形畸变、稳定性有更高的要求。10nm及以下时，ArFi+多重曝光的复杂度急剧上升，经济性下降...

1、当您付费下载文档后，您只拥有了使用权限，并不意味着购买了版权，文档只能用于自身使用，不得用于其他商业用途（如 [转卖]进行直接盈利或[编辑后售卖]进行间接盈利）。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。
3、如文档内容存在违规，或者侵犯商业秘密、侵犯著作权等，请点击“违规举报”。

碎片内容

嘿牛投研的最新文档