证券研究报告半导体行业2020年6月22日光刻机行业研究框架——专题报告分析师：陈杭执业证书编号：S1220519110008重中之重，前道设备居首位。光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。冲云破雾，国产替代迎曙光。目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3高达99%。在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义。在02专项光刻机项目中，设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米。考虑到此项目作为十...