行/半导体：首台2nm光刻机发货英特业尔，先进制程推进顺利及产本期投资提示：业电子/⚫事件：当地时间12月21日，荷兰阿斯麦（ASML）表示开始向美国英特尔交付首批新型半导体高数值孔径的极紫外光刻机（HighNAEUV光刻机），意味着全球首台HighNAEUV光刻机正式发货。2023年12月25日行⚫HighNAEUV光刻机进一步优化分辨率，可用于2nm及以下制程节点的芯片制造。High业NAEUV光刻机主要技术革新在于实现了更大的数值孔径，根据瑞利公式，数值孔径越大研则分辨率越佳。High-NAEUV采用蔡司生产的0.55NA的镜头，能够实现8nm级别的究分辨率，而标准EUV使用0.33NA的镜头，实现分辨率水平为13nm。因此，highNAEUV通过优化光刻分辨率的方式，使得2nm及以下节点芯片制造的光刻环节得以实现。行看好⚫阿斯麦highNAEUV光刻机命名EX...