241205 光刻机产业专题报告:先进制程关键步骤,半导体设备明珠,光刻机市场迎国产化机遇

阅读 116 下载 0 格式 pdf 大小 2.83 MB 共43页2024-12-27 14:09:44发布于上海市
证券研究报告2024年12月05日光刻机产业深度系列专题报告(一)优于大市先进制程关键步骤,半导体设备明珠,光刻机市场迎国产化机遇核心观点行业研究·行业专题光刻是先进制程的关键步骤,半导体产业的基石。光刻是一种图像复制技术,电子·半导体在芯片制造过程中耗时最长,成本占比最高。作为先进制程的关键步骤,光刻分辨率决定了元件的最小特征尺寸与芯片的集成度。根据瑞利准则,可以优于大市·维持通过缩短光源波长、增大数值孔径、减小光刻工艺因子提高光刻分辨率,进而提升芯片的性能。光刻技术作为半导体产业的基石,一般用工艺节点反应证券分析师:胡剑证券分析师:胡慧半导体行业发展水平,28nm是工艺节点的重要分水岭,在性价比方面与下一021-60893306021-60871321代工艺有着较大差异。hujian1@guosen....

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